[공시] 주성엔지,프라즈마 소스 관련 기기 美 특허 취득

입력2006.04.02 02:04 수정2006.04.02 02:07

주성엔지니어링은 KAIST와 공동으로 프라즈마 소스(Plasma Source)관련 안테나 기기로 미국 특허를 취득했다고 11일 공시했다. 주성엔지니어링측은 "이번 특허 기기가 에쳐(Etcher)장비나 프라즈마 화학증착 장비의 프라즈마 소스에 관한것"이라며 "고밀도 반도체 에쳐장비나 PECVD장비에 적용할 경우 프라즈마의 균일성과 프라즈마 밀도를 획기적으로 향상시킬 수 있다"고 설명했다. 투자액은 30억원이다. [한경닷컴]

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