코스닥 등록기업인 피케이엘은 3일 원자층 박막 증착장치의 반응실에 대한 특허를 취득했다고 공시했다.

이 특허는 ASCVD(원자층 박막 증착장치)의 제작 설계에 활용되는 것으로 반응실내로 주입된 유기 금속 화합물 혹은 가스가 반응실 내에서 교란이 생기지 않고 주입된 후 배기되기까지의 구조적인 부분을 특징으로 하며, 반응실 구조를 단순화시켜기생반응의 효과를 억제시키는 방법이다.

피케이엘은 이 특허 취득을 위해 10억원을 투자했다.

[한경닷컴]