피케이엘, 원자층 박막 증착장치 특허취득
이 특허는 ASCVD(원자층 박막 증착장치)의 제작 설계에 활용되는 것으로 반응실내로 주입된 유기 금속 화합물 혹은 가스가 반응실 내에서 교란이 생기지 않고 주입된 후 배기되기까지의 구조적인 부분을 특징으로 하며, 반응실 구조를 단순화시켜기생반응의 효과를 억제시키는 방법이다.
피케이엘은 이 특허 취득을 위해 10억원을 투자했다.
[한경닷컴]
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