EUV 첫 전용라인 찾은 이재용…시스템반도체 1위 박차(종합)

"시스템 반도체 1등 여정 첫 단추…인류사회 공헌 꿈 담자"
V1라인 7나노 이하 반도체 생산 돌입…차세대 파운드리 핵심기지

이재용 삼성전자 부회장이 20일 올해 2월부터 본격적으로 가동을 시작한 EUV(Extreme Ultra Violet·노광 기술) 전용 반도체 생산라인을 찾아 '시스템 반도체 1위'에 대한 의지를 강조했다.

이 부회장은 이날 디바이스솔루션(DS) 부문장인 김기남 부회장, 정은승 파운드리사업부장 등과 함께 경기 화성사업장 내 'V1 라인'을 방문해 임직원들을 격려했다.

이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에서 시스템 반도체 세계 1등의 비전을 심었다"며 "오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다"고 말했다.

이어 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 강조했다.

이 부회장이 이날 방문한 V1라인은 최근 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했다.

삼성전자는 V1라인에서 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산한다는 계획이다.

V1라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기에 완공됐다.

삼성전자는 이 라인에 누적 60억달러(약 7조원)를 투자했다.

올해 말까지 7나노 이하 제품 생산 규모가 전년보다 약 3배 이상 확대할 것으로 삼성전자는 예상하고 있다.

이 부회장은 올해 첫 경영 일정으로 1월2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾은 데 이어 한달여 만에 또 EUV 첫 전용라인을 찾은 것이다.

그만큼 시스템 반도체에 대한 각별한 의지를 나타낸 것으로 해석된다.

삼성전자는 지난해 4월 화성사업장에서 시스템 반도체에 2030년까지 133조원을 투자하고 1만5천여명을 채용하는 계획을 담은 '반도체 비전 2030'을 발표한 바 있다.

회사 측은 "최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로설계) 기업과 협력을 추진하며 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다"며 "V1라인은 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대한다"고 말했다.

/연합뉴스