삼성전자의 1분기 시설투자가 전년 동기에 비해 37% 급감했다. 반도체 미세공정 기술이 10나노미터(㎚)대 한계에 달하면서 시설투자가 줄고 있다는 분석이다.

16일 삼성전자가 공개한 분기보고서에 따르면 이 회사는 1분기 반도체와 디스플레이 사업 부문의 라인 성능 개선 등에 4조5704억원을 투자했다. 반도체 사업에 총 2조516억원, 디스플레이 사업에 총 1조8014억원을 투자했으며 기타 부문에 7174억원을 집행했다.

삼성전자는 작년 1분기에는 반도체에 4조3617억원, 디스플레이에 2조3282억원 등 7조2126억원을 투입했다. 2014년 1분기에도 반도체에 3조3358억원을 집어넣는 등 모두 5조3738억원을 집행했다.

삼성전자는 “올해 연간 시설투자금액은 아직 확정되지 않았다”며 “다양한 사업 기회를 검토 중”이라고 밝혔다. 연구개발비는 올 1분기 3조8117억원을 써 지난해 3조7957억원, 2014년 3조8775억원 등과 비슷했다.

김현석 기자 realist@hankyung.com