차세대 고집적 반도체제조에 필요한 정반사율 측정장치 및 측정표준인증
물질(CRM)이 개발됐다.

한국표준과학연구원 광학그룹 김창순 박사팀은 삼성전자 반도체사업부와
공동으로 지난 2년간 1억원의 연구비를 들여 종전방식보다 정밀도가 10배
이상 높은 정반사율 측정장치 및 CRM을 개발했다고 12일 밝혔다.

이 장치는 실리콘웨이퍼 위에 회로를 식각하는 빛이 웨이퍼에 코팅된
금속박막에 부딪쳐 되돌아 나오는 정도를 정밀 측정해 준다.

이 장치는 반사율이 매우 낮아 측정편차가 큰 기존의 측정방식과는 달리
반사되는 빛이 조사하는 지점에 정확히 되돌아오게 하는 방식을 채택했다.

웨이퍼의 금속표면에서 반사되는 빛의 정도를 정확히 측정하는 일은 매우
중요하다.

표면의 빛반사율을 정확히 알아야 식각을 위한 빛의 조사량을 조절할 수
있고 이는 곧 세밀한 패턴을 뜨는데 필수적이기 때문이다.

특히 회로의 집적도가 높아지면서 이에대한 중요성이 더욱 강조되고 있다.

김박사는 "반도체제조공정에서 반사율을 잘못 측정해 발생하는 피해액은
보통 건당 2백억~3백억원을 넘는다"며 "이 장치개발로 반도체의 집적도가
증가하면서 야기될 수 있는 성능의 저하나 불량률의 증가에 따른 문제에
대처할 수 있게 됐다"고 설명했다.

(한국경제신문 1997년 10월 13일자).