한국표준과학연구원은 반도체 정보통신분야에 쓰일 차세대 기억소자의 재
료개발을 위해 한국과학기술연구원(KIST) 서울대와 공동으로 극미세구조기
술개발 사업단을 발족했다.

이 사업단에는 각분야에서 10~20년의 연구경력을 가진 50여명의 박사급
연구인력이 참여하게 된다.

이 사업은 3단계에 걸쳐 10년간 지속되며 이달부터 99년 11월까지 3년간
수행될 1단계 사업기간동안 90억원의 연구개발비가 투입될 예정이다.

문대원한국표준과학연구원 책임연구원은 "마이크로미터(10만분의 1미터)
이상의 크기를 가진 결정립으로 이뤄진 기존 재료기술의 한계를 극복하기
위해 10나노미터(1억분의 1미터) 크기의 결정립을 이용한 새로운 재료연구
를 수행할 것"이라고 밝혔다.

또 나노미터 규모의 결정립 자성재료를 활용할 경우 현재 고밀도 자성기
록매체의 한계를 뛰어 넘는 초고밀도 기록매체 기술을 개발, 반도체등 기록
매체의 저장용량을 획기적으로 높일수 있다고 설명했다.

(한국경제신문 1996년 12월 5일자).