삼성전자가 회로선 간 간격이 10나노인 시스템 반도체를 양산합니다.10나노 공정을 이용하면 기존의 14나노 1세대 공정으로 만든 반도체 보다 소비전력은 40% 정도 줄고, 웨이퍼 당 칩 생산량은 30% 정도 향상된 반도체를 만들 수 있습니다.또 이번 10나노 공정은 기존 장비를 그대로 활용해 기판에 미세한 회로를 그리는 작업을 세 번 반복하는 신기술 `트리플패터닝`이 적용됐습니다.삼성전자는 "10나노 1세대 공정 양산을 시작으로 2017년까지 성능을 향상시킨 2세대 공정 개발과 지속적인 성능개선을 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 계획"이라고 말했습니다.유오성기자 osyoo@wowtv.co.kr한국경제TV 핫뉴스ㆍ정부·삼성전자, 갤노트7 발화 원인 조사 본격 개시ㆍ`복면가왕` 우비소녀 정체 "대체 누구야"… 박진주 유력? 영상보니ㆍ`런닝맨` 솔빈, 쫄쫄이 의상입고 `꽝손` 등극한 이유는?ㆍ탈모 예방, 유승옥이 추천한 `쟁기 요가`란?ㆍ류중일 감독과 결별, 삼성은 여전히 변하지 않았다ⓒ 한국경제TV, 무단 전재 및 재배포 금지