삼성전자는 네덜란드 반도체 장비업체인 ASML에 7억7900만 유로(한화 약 1조1100억원)를 투자한다고 27일 밝혔다.

우선 ASML이 진행하는 고객사와의 공동 투자 프로그램에 참여하는 형식으로 2억7600만 유로를 ASML 차세대 리소그래피 (노광) 기술 연구개발에 5년에 걸쳐 투자한다. 또 5억300만 유로 상당의 ASML 지분 3%(1259만5575주)도 인수할 계획이다.

ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 극자외선(Extreme Ultraviolet) 리소그래피 기술을 가진 업체다. 삼성전자에 앞서 이번 공동 투자 프로그램을 통해 인텔, TSMC와도 투자 계약을 맺었다.

삼성전자 관계자는 "이번 투자가 차세대 EUV 리소그래피 기술개발 시기를 앞당겨 반도체 산업 발전에 도움이 될 것"이라고 말했다.

한경닷컴 권민경 기자 kyoung@hankyung.com