테스는 5일 반도체 제조장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법에 대한 특허를 취득했다고 공시했다.

테스는 "이번 특허는 반도체 식각장비와 관련된 것으로 이를 활용해 앞으로 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획"이라고 전했다.

한경닷컴 정현영 기자 jhy@hankyung.com