동부하이텍은 23일 미국 반도체 설계 소프트웨어 회사인 멘토그래픽스와 반도체 공정기술 개발 기간을 한 달 앞당길 수 있는 OPC(Optical Proximity Correction) 프로그램 개발에 성공했다고 밝혔다.

OPC는 반도체 설계회로를 반도체 원재료인 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려넣는 포토공정에 쓰는 프로그램이다. 빛의 특성상 발생하는 굴절 등 왜곡현상을 없애 정확한 설계도를 그릴 수 있도록 돕는 역할을 한다. 통상 하나의 반도체 공정기술을 개발하려면 설계 오차 범위를 줄이는 OPC 공정을 세 번 이상 진행해야 한다.

동부하이텍은 지난 3월부터 4개월간 분석한 반도체 공정기술 정보를 바탕으로 한 번에 10일이 걸리는 OPC 기간을 2일로 줄였다고 설명했다.

하이엔드(high－end) 반도체와 한 개의 칩에 다양한 기능을 요구하는 시스템 온 칩(SoC) 반도체가 개발되면서 OPC 기술의 중요성이 점차 커지는 추세다.

회사 관계자는 "멘토그래픽스와의 협력을 더욱 강화해 90나노 이하 공정에서의 OPC 프로그램 최적화를 지속적으로 추진，고품질 반도체를 적기에 공급할 수 있는 수준 높은 서비스를 제공할 계획"이라고 밝혔다.

김현예 기자 yeah@hankyung.com