삼성전자 美 텍사스 오스틴 공장 5억弗 투자
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삼성전자는 노무현 대통령의 미국 방문에 맞춰 계획중이던 미국 텍사스 오스틴 반도체공장 라인을 교체하는 5억달러 규모의 투자를 시작한다고 24일 밝혔다.
▶한경 1월20일자 참조
삼성전자 관계자는 24일 "오스틴 공장의 기존 설비가 0.13미크론이나 0.15미크론급으로 낙후돼 이를 나노급 회로선폭(0.1미크론 이하 수준)의 첨단 D램 생산라인으로 전환키로 했다"며 "기존 설비를 걷어내고 새 설비를 투입하는 설비 반입식을 내달 초 갖기로 했다"고 말했다.
투자금액은 첫해 1억달러에 이어 매년 일정 규모가 투입되며 총 투자액은 최대 5억달러에 이를 것으로 예상된다.
설비 반입식 행사에는 부시 미국 대통령의 아버지인 조지 부시 전 미국 대통령을 비롯 릭 페리 텍사스 주지사 등이 참석하며 삼성전자측에서는 이윤우 사장이 참석한다.
삼성은 내달 11일 시작되는 노 대통령의 방미에 앞서 한·미간 경제우호 분위기 조성을 위해 반입식 행사를 갖기로 한 것으로 알려졌다.
김성택 기자 idntt@hankyung.com