삼성전자가 12인치 웨이퍼 전용라인 건설에 착수한다. 삼성은 그동안 12인치 웨이퍼 시험라인만을 가동해왔다. 삼성전자는 3·4분기중 1천3백35억원을 투자해 경기도 화성에 12인치 웨이퍼 전용라인인 반도체 12,13라인 골조공사에 착수한다고 6일 증권거래소에 공시했다. 삼성전자는 내년 1·4분기까지 골조공사를 마친 뒤 본격적인 설비투자를 시작할 전망이다. 12인치 웨이퍼 생산라인의 경우 통상 골조공사 착수에서부터 양산 시작단계까지 20개월이 걸리는 점을 감안하면 2004년 상반기께 양산을 시작할 수 있을 전망이다. 이에 따라 연내에 본격적인 설비투자를 결정할 것으로 예상된다. 지름 12인치(3백㎜)짜리 웨이퍼(반도체 원료가 되는 원판형의 실리콘) 전용라인은 기존 8인치 라인에 비해 생산성이 2.5배가 되는 첨단시설로 인텔과 인피니언 등 일부 회사들만이 라인을 가동하고 있다. 또 총투자비용이 3조원에 달하는 대규모 투자다. 인피니언의 경우 초기에 무리한 투자로 1백28메가 SD램 제조원가가 경쟁업체에 비해 1달러 가량 비싸 큰 손실을 보는 등 초기 투자 실패 가능성이 높은 것으로 알려져 있다. 전문가들은 향후 반도체업계의 승부가 12인치 웨이퍼 라인에서 갈릴 것으로 보고 삼성전자의 12인치 웨이퍼 전용라인 투자 시점에 주목해왔다. 김성택 기자 idntt@hankyung.com